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标题: 求助GMX如何实现在表面逐个沉积分子 [打印本页]

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Limk    时间: 2020-10-15 21:22
标题: 求助GMX如何实现在表面逐个沉积分子
各位老师好,我看到一篇文献通过GROMACS来模拟材料的沉积,文中写道“The vapor-phase deposition process of C60 was imitated via landing one C60 every 100 ps on a DTDCTB surface”,想请教一下大家这种动态的每100ps在表面沉积一个分子的模拟过程具体应该怎么实现?(文章写到所有的MD过程都是通过GROMACS程序进行的)

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让你变成回忆    时间: 2020-10-15 21:49
自己写程序实现的。
通过写程序产生每一次沉积的初始结构(准备好每次所需要的gro、top、mdp文件),然后再用GMX跑MD
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Limk    时间: 2020-10-16 08:53
让你变成回忆 发表于 2020-10-15 21:49
自己写程序实现的。
通过写程序产生每一次沉积的初始结构(准备好每次所需要的gro、top、mdp文件),然后 ...

感谢您的回复,请问自己学习写这方面的程序应该如何入手,很少看到有类似的MD模拟讨论,非常感谢
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wolfli369    时间: 2020-10-16 10:00
请问有没有相关的更加具体的实例
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让你变成回忆    时间: 2020-10-16 11:14
Limk 发表于 2020-10-16 08:53
感谢您的回复,请问自己学习写这方面的程序应该如何入手,很少看到有类似的MD模拟讨论,非常感谢

程序这方面只能你自己琢磨了,shell+GMX的内置命令很容易实现的。

现在关于这方面的MD模拟的东西实际上还是挺多的了,都是通过模拟这种所谓的非平衡过程去仿真实验的加工条件。Alan E. Mark (The University of Queensland,通讯作者)近几年用该方法做了许多研究有机半导体的工作,你可以去看看。
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飒飒萨达    时间: 2021-8-24 15:20
请问您解决了嘛,我也在看这篇文章,现在还是不知道怎么具体操作的




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