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标题: silvaco软件求助 [打印本页]

作者
Author: 无语wy 时间: 2021-3-31 10:26
标题: silvaco软件求助
课题需要研究ICP刻蚀中射频功率，压强，气体流量等工艺参数对刻蚀的影响，我现在用的是silvaco里的等离子体etch功能，过程中产生一些问题
vpdc,vpac哪一个可以用来代表自偏压，是不是可以用来代表前向功率？

nparticles离子数是不是可以理解为离子密度，进而代表ICP功率大小？

Qio和Qcht又代表什么？

气体流量可以用什么参数模拟？

作者
Author: sobereva 时间: 2021-3-31 12:34
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