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标题: 求教关于光催化过程中氧化还原相关的问题 [打印本页]

作者
Author: xexlalalan 时间: 2021-4-6 13:46
标题: 求教关于光催化过程中氧化还原相关的问题
在光催化过程中，我们常用固体价带顶、导带底的位置和待氧化/还原分子的氧化还原电位进行比较，以估计光催化反应在热力学上是否自发。但是最近看到一些文献用分子的HOMO、LUMO的计算值和材料的导带、价带位置进行比对。因为之前看过sob老师关于能隙、HOMO、LUMO的一篇博文（543号博文），故对这一做法表示怀疑，但是又不是很清楚这样的作法本质上错在哪里。

请问：将固体价带顶、导带底的位置和分子的HOMO/LUMO、氧化还原电势进行比对以确定光催化反应在热力学上自发与否的这两种做法，哪一种更加严格可靠？不可靠的那一种做法本质上错在哪里？

如能解答，不胜感激！！

作者
Author: sobereva 时间: 2021-4-7 00:43
原理上后者更有意义和可靠。HOMO、LUMO是虚构的、与氧化还原势只是近似关系的这点我博文已经说了

作者
Author: xexlalalan 时间: 2021-4-11 14:07

sobereva 发表于 2021-4-7 00:43
原理上后者更有意义和可靠。HOMO、LUMO是虚构的、与氧化还原势只是近似关系的这点我博文已经说了

谢谢社长回复！这下就放心了 :-)

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