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标题: 关于Hirshfeld表面分析和指纹图的尝试 [打印本页]

作者
Author:
zhb    时间: 2021-9-23 19:37
标题: 关于Hirshfeld表面分析和指纹图的尝试
老师您好,最近读了Multiwfn手册里Hirshfeld表面分析和指纹图,老师这两个分析只能证明氢键的存在,不能证明氢键加强机理吗?想尝试将两个分析用在分子内或分子间的氢键(S0-S1)加强,可以这样用吗?是看dnorm值么,应该怎么分析才合理呢?谢谢老师

作者
Author:
sobereva    时间: 2021-9-24 09:46
先把体系特征说清楚,最好截图,本来Hirshfeld surface分析都未必适合这种体系

Multiwfn支持的考察氢键方法多了去了,诸如Multiwfn里的AIM拓扑分析考察氢键强度,比Hirshfeld surface分析考察这类问题更清晰、可靠也明显更流行
使用Multiwfn做拓扑分析以及计算孤对电子角度
http://sobereva.com/108
透彻认识氢键本质、简单可靠地估计氢键强度:一篇2019年JCC上的重要研究文章介绍
http://sobereva.com/513http://bbs.keinsci.com/thread-14600-1-1.html
Multiwfn支持的弱相互作用的分析方法概览
http://sobereva.com/252


作者
Author:
虎王    时间: 2021-9-28 23:29
S0-S1是什么?氢键加强机理是什么?




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