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标题: bulk有优化bandgap,切slab后没有bandgap了 [打印本页]

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huahua0621    时间: 2022-6-15 11:24
标题: bulk有优化bandgap,切slab后没有bandgap了
各位老师好,VASP PBE优化BiOBr表面,1.一开始切了Bi,O,Br,2Br暴露的表面为了计算表面能,上下表面是相同的,但是除了Br和2Br暴露的表面其他总出现电子分数占据的问题,在2和0之间总是有1.7 或者0.5左右的小数,调了sigma值还有dipole都没有解决,画出来的DOS图也很奇怪,想知道怎么解决 (, 下载次数 Times of downloads: 3)
2.准备计算表面催化反应,选择了Bi暴露的表面,切了两层,这个时候是开壳层的,画出来的dos就更奇怪了,想知道是这个表面有问题吗,应该怎么解决? (, 下载次数 Times of downloads: 0)
3.之前用相同的方法算过bulk还有表面单层Br和双层Br的情况,dos图也是合理的,应该不是计算方法导致的 (, 下载次数 Times of downloads: 4)
4.还有我选择的gamma点1*1*1优化,会不会也有影响

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wxl@wxl    时间: 2024-2-26 14:45
请问楼主解决这个问题了吗?




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