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标题: 表面吸附问题求指导 [打印本页]

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一直走    时间: 2016-5-16 12:24
标题: 表面吸附问题求指导
在模拟表面吸附问题时,对于切出的表面层数不同文献的描述不同,而且需要固定底层原子,请问老师,一般对于吸附问题,确定的晶面需要切出几层,而且底下固定的层数不同会不会影响最终结果,一般来说是固定几层啊?

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sobereva    时间: 2016-5-16 16:12
看这里的讨论
http://bbs.keinsci.com/thread-1017-1-1.html
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一直走    时间: 2016-5-16 17:21
本帖最后由 一直走 于 2016-5-16 17:27 编辑

初做吸附问题,各种走弯路,还望各位老师多指教啊
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一直走    时间: 2016-5-16 17:25
sobereva 发表于 2016-5-16 16:12
看这里的讨论
http://bbs.keinsci.com/thread-1017-1-1.html

好的,谢谢Sob老师,我刚看了下,不知道我这样理解对不对:
底层固定一部分区域,只是为了让优化的时候不偏离原先的固体结构(所以底层一般只需固定一至两层即可),而具体吸附的分子是与未固定的分子作用,至于需留出几层原子,就要视要吸附的分子的大小,若吸附的分子较大,就需留出较多层数作为其相互作用区域。不知这样理解是否恰当?
作者
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sobereva    时间: 2016-5-16 17:33
一直走 发表于 2016-5-16 17:25
好的,谢谢Sob老师,我刚看了下,不知道我这样理解对不对:
底层固定一部分区域,只是为了让优化的时候 ...

层数和吸附分子大小倒没太直接的关系,一般都是三四层。只不过吸附分子大的话需要较大的晶胞表面积
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一直走    时间: 2016-5-16 17:42
sobereva 发表于 2016-5-16 17:33
层数和吸附分子大小倒没太直接的关系,一般都是三四层。只不过吸附分子大的话需要较大的晶胞表面积

明白了,谢谢老师
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liu_tiao    时间: 2016-5-17 10:30
     需要多少层,衬底多少层,你要根据文献来定,文献使用的模型都大同小异;也有对层数测试这一说。并且,你还得考虑实际的计算资源,层数越多,原子越多,计算的时间越久。

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一直走    时间: 2016-5-17 13:07
liu_tiao 发表于 2016-5-17 10:30
需要多少层,衬底多少层,你要根据文献来定,文献使用的模型都大同小异;也有对层数测试这一说。并且 ...

恩,我是想重复一个文献的结果,但是这是个侧重实验的文献,里面没有明确说明用了多少层,只是把结果贴出来,说明和实验是相符的,我再找找相似的文献试试,谢谢提醒哈~
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liu_tiao    时间: 2016-5-17 15:41
一直走 发表于 2016-5-17 13:07
恩,我是想重复一个文献的结果,但是这是个侧重实验的文献,里面没有明确说明用了多少层,只是把结果贴出 ...

       文献一般都或多或少,在计算细节部分,对模型加以描述。

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一直走    时间: 2016-5-17 17:53
liu_tiao 发表于 2016-5-17 15:41
文献一般都或多或少,在计算细节部分,对模型加以描述。

请问你看过关于层数测试的文献吗,关于切出层数不同,对于吸附结果的影响,好想搞明白这些,要不做哪一步心里都没底啊
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liu_tiao    时间: 2016-5-17 18:27
一直走 发表于 2016-5-17 17:53
请问你看过关于层数测试的文献吗,关于切出层数不同,对于吸附结果的影响,好想搞明白这些,要不做哪一步 ...

    你可以切不同的层,看看表面能之类的性质变化趋势怎么样。我在一本书上看到过,具体看的那个指标,记不清了。

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一直走    时间: 2016-5-17 19:41
liu_tiao 发表于 2016-5-17 18:27
你可以切不同的层,看看表面能之类的性质变化趋势怎么样。我在一本书上看到过,具体看的那个指标,记 ...

好的,我先来研究研究~
作者
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一直走    时间: 2016-5-18 20:31
本帖最后由 一直走 于 2016-5-18 20:34 编辑
liu_tiao 发表于 2016-5-17 18:27
你可以切不同的层,看看表面能之类的性质变化趋势怎么样。我在一本书上看到过,具体看的那个指标,记 ...

我切了一个6层的Cu(111)表面,加了真空层后发现在真空层顶部也会有一层Cu原子,吸附的时候我把小分子放在了真空层里,靠近6层Cu表面的附近,不知道真空层顶部的那层Cu会不会对吸附产生影响,需不需要人为地去掉呢?还请老师指点~
作者
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sobereva    时间: 2016-5-18 21:08
一直走 发表于 2016-5-18 20:31
我切了一个6层的Cu(111)表面,加了真空层后发现在真空层顶部也会有一层Cu原子,吸附的时候我把小分子放 ...

没影响,被吸附分子离顶层足够远就行。
作者
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一直走    时间: 2016-5-18 21:31
sobereva 发表于 2016-5-18 21:08
没影响,被吸附分子离顶层足够远就行。

好的,我建的是12埃的真空层,我觉得离得应该足够远了,谢谢老师~
作者
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liu_tiao    时间: 2016-5-19 10:37
一直走 发表于 2016-5-18 21:31
好的,我建的是12埃的真空层,我觉得离得应该足够远了,谢谢老师~

      如果是小分子的话,12—15埃的真空层,应该足够了。

作者
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一直走    时间: 2016-5-19 20:12
liu_tiao 发表于 2016-5-19 10:37
如果是小分子的话,12—15埃的真空层,应该足够了。

恩,是小分子,还想请问一个问题,我们正常切的面基本都是(h k l)面,但如果是六方晶系,想切(h k i l)面,是直接把“i”去掉转换成为(h k l)吗,还有用其它方法?
作者
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卡开发发    时间: 2016-5-19 22:11
一直走 发表于 2016-5-19 20:12
恩,是小分子,还想请问一个问题,我们正常切的面基本都是(h k l)面,但如果是六方晶系,想切(h k i l) ...

i=-(h+k),知道哪些是等价的晶面然后选取相应等价的晶面就行了。

真空区域大小的选择我觉得还是看程序,如果是局域基组的话真空大小对计算量影响不大,尽可能取充分就行;平面波的话有条件就测试一下,偶极修正原则上得考虑,如果真的做真空大小测试的话,极性表面的能量可能根本收敛不了。12A个人觉得偏小,虽然有文献确实这么干了,如果计算资源不充分,15~20A还是要的。
作者
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liu_tiao    时间: 2016-5-19 22:17
卡开发发 发表于 2016-5-19 22:11
i=-(h+k),知道哪些是等价的晶面然后选取相应等价的晶面就行了。

真空区域大小的选择我觉得还是看程序 ...

   哦哦。六方晶系,有的时候文献用三指数,有的时候用四指数,虽然看起来模型相同,但是叫法不一样。原来才是这样的所。学习了~

作者
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liu_tiao    时间: 2016-5-19 22:21
卡开发发 发表于 2016-5-19 22:11
i=-(h+k),知道哪些是等价的晶面然后选取相应等价的晶面就行了。

真空区域大小的选择我觉得还是看程序 ...

     打开POSCAR或者CONTCAR,都是一些零散的原子。程序怎么来判断他们之间如何成键的呢,这个问题我一直没有弄明白。

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卡开发发    时间: 2016-5-19 22:49
liu_tiao 发表于 2016-5-19 22:21
打开POSCAR或者CONTCAR,都是一些零散的原子。程序怎么来判断他们之间如何成键的呢,这个问题我一直 ...

对于结构文件原子连接方式很多显示的程序能够自动判断吧,一般也就根据键长键角的范围和原子配位数这些经验的。

如果你需要严格了解原子之间的化学键,可能就需要波函数分析了。
作者
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一直走    时间: 2016-5-20 10:47
卡开发发 发表于 2016-5-19 22:11
i=-(h+k),知道哪些是等价的晶面然后选取相应等价的晶面就行了。

真空区域大小的选择我觉得还是看程序 ...

好的,请问老师,如果我想切ZnO(0001)晶面,是否可以切出(001)面等价它呢?
作者
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卡开发发    时间: 2016-5-20 12:10
一直走 发表于 2016-5-20 10:47
好的,请问老师,如果我想切ZnO(0001)晶面,是否可以切出(001)面等价它呢?

(0 0 1)就行
作者
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一直走    时间: 2016-5-20 12:21
卡开发发 发表于 2016-5-20 12:10
(0 0 1)就行

好的,谢谢老师~
作者
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一直走    时间: 2016-5-21 16:13
卡开发发 发表于 2016-5-20 12:10
(0 0 1)就行

还想请教老师,在用Dmol3计算时,什么时候需要选“Spin unrestricted"选项?不知道我计算晶面时的报错会不会与它有关,单纯的优化晶面都报错不收敛了,我觉得不科学呀~
作者
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卡开发发    时间: 2016-5-21 16:20
一直走 发表于 2016-5-21 16:13
还想请教老师,在用Dmol3计算时,什么时候需要选“Spin unrestricted"选项?不知道我计算晶面时的报错会不 ...

一般明显的闭壳层(无磁性)结构才使用Spin restricted,其余只要结构是磁性结构,都应该Spin unrestricted,并且尽可能让初始猜测的磁矩接近于真实情况。

你要是算Cu (1 1 1)表面的话Spin restricted就行,吸附的分子如果不是开壳层的形式,整个体系很大可能性Spin restricted就行。

我不知道你指的难收敛是哪种,SCF还是OPT?
作者
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一直走    时间: 2016-5-21 16:31
本帖最后由 一直走 于 2016-5-21 17:08 编辑
卡开发发 发表于 2016-5-21 16:20
一般明显的闭壳层(无磁性)结构才使用Spin restricted,其余只要结构是磁性结构,都应该Spin unrestrict ...

算的是SiO2(111)面,吸附的是Cu,报的错是SCF不收敛,所以是只弛豫表面时,用Spin restricted,吸附Cu后,就用Spin unrestricted吗?
作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-5-21 19:14
一直走 发表于 2016-5-21 16:31
算的是SiO2(111)面,吸附的是Cu,报的错是SCF不收敛,所以是只弛豫表面时,用Spin restricted,吸附Cu后,就 ...

奇数Cu团簇或是原子在表面的话可能就得考虑Spin unrestricted了,不过这个得具体情况具体分析了。
作者
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一直走    时间: 2016-5-21 19:37
卡开发发 发表于 2016-5-21 19:14
奇数Cu团簇或是原子在表面的话可能就得考虑Spin unrestricted了,不过这个得具体情况具体分析了。

好的,太感谢了,以前对自旋一直是迷茫中,现在终于有点方向了~感激不尽~
作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 10:18
sobereva 发表于 2016-5-16 17:33
层数和吸附分子大小倒没太直接的关系,一般都是三四层。只不过吸附分子大的话需要较大的晶胞表面积

各位老师大神好,我用vasp做表面吸附,优化完分子会解离,吸附表面的催化剂原子也发生错位啥的,这是什么原因呢?该怎么解决啊
作者
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liu_tiao    时间: 2016-6-22 10:44
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 10:18
各位老师大神好,我用vasp做表面吸附,优化完分子会解离,吸附表面的催化剂原子也发生错位啥的,这是什么 ...

最好贴上图。优化之后,分子会被活化了,分子的结构肯定会发生变化。解离的话,是分子的键发生断裂,分子分成了几部分,这就是解离吸附。至于催化剂的表面原子发生变化,应该是吸附过程中发生了表面重构之类的。




作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 11:04
liu_tiao 发表于 2016-6-22 10:44
最好贴上图。优化之后,分子会被活化了,分子的结构肯定会发生变化。解离的话,是分子的键发生断裂,分子 ...

试了半天不知道怎么上传图片啊。。。。?不好意思,刚注册的新手
作者
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liu_tiao    时间: 2016-6-22 11:26
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 11:04
试了半天不知道怎么上传图片啊。。。。?不好意思,刚注册的新手

你在摸索摸索,上传图片很简单的
作者
Author:
sobereva    时间: 2016-6-22 14:34
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 11:04
试了半天不知道怎么上传图片啊。。。。?不好意思,刚注册的新手

仔细看置顶的新人必读,怎么传图,怎么修改帖子写得很详细
尝试发图片如果一次失败了,直接修改帖子,不要再发新的帖子
作者
Author:
yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 15:04
liu_tiao 发表于 2016-6-22 11:26
你在摸索摸索,上传图片很简单的

而且吸附能=Es-Et-Em得到的值是正的,这样可能吗?

作者
Author:
liu_tiao    时间: 2016-6-22 15:15
本帖最后由 liu_tiao 于 2016-6-22 15:16 编辑
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 15:04
而且吸附能=Es-Et-Em得到的值是正的,这样可能吗?

你把这个图调好,最好是成键,然后说一下是什么物质。完全看不出来你这是什么分子。至于你这个吸附能表达式看不懂,文献一般都是Eads=Eslab/molecular-Eslab-Emolecular,吸附能为负表示放热,越负越稳定。



作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 15:25
liu_tiao 发表于 2016-6-22 15:15
你把这个图调好,最好是成键,然后说一下是什么物质。完全看不出来你这是什么分子。至于你这个吸附能表达 ...

嗯嗯,吸附能公式表达的意思是和你写的一样,我在算喹啉和咔唑分子在硫化钼表面的吸附,硫化钼切的(00-3)面,这张图是取了3 thickness片层。放在催化剂表面进行优化,结束后喹啉和咔唑都会解离掉,而且上层松弛的催化剂原子也会错位。p.s图中黄色原子为S,紫色为Mo,咖啡色为C,粉色为H,蓝色为N原子。
作者
Author:
liu_tiao    时间: 2016-6-22 15:46
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 15:25
嗯嗯,吸附能公式表达的意思是和你写的一样,我在算喹啉和咔唑分子在硫化钼表面的吸附,硫化钼切的(00-3 ...

沿着MoS2的(001)方向切开,就是MoS2的一层。你的研究课题难道是碱性含氮分子对加氢脱硫的抑制机理?

作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 15:55
liu_tiao 发表于 2016-6-22 15:46
沿着MoS2的(001)方向切开,就是MoS2的一层。你的研究课题难道是碱性含氮分子对加氢脱硫的抑制机理?

其实这不是我的课题,以前师姐做的,剩下一点数据,老板让我写篇文章,所以我沿用她之前切的(00-3)面,她以前只算了一层硫化钼,我感觉不合理想补点数据,多加几个片层算一下。题目大概就是咔唑和喹啉类化合物(包含几个衍生物)在硫化钼表面的吸附。
作者
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一直走    时间: 2016-6-22 16:11
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 15:55
其实这不是我的课题,以前师姐做的,剩下一点数据,老板让我写篇文章,所以我沿用她之前切的(00-3)面, ...

在算吸附的时候,下面衬底有固定吗?感觉切完的原子排列应该规则吧
作者
Author:
liu_tiao    时间: 2016-6-22 16:11
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 15:55
其实这不是我的课题,以前师姐做的,剩下一点数据,老板让我写篇文章,所以我沿用她之前切的(00-3)面, ...

MoS2是S-Mo-S结构,你这个图表面怎么全是Mo原子,而不是S原子。而且盒子的最顶层和最底层也是Mo原子,层与层之间还有散落的Mo原子。你建的模型是不是有问题。我感觉文献对簇模型才说(00-3)表面,对slab模型说(001)表面,虽然意思是一样的。


作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 16:15
一直走 发表于 2016-6-22 16:11
在算吸附的时候,下面衬底有固定吗?感觉切完的原子排列应该规则吧

对的,底层固定了,是上面有的原子陷落下来了
作者
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一直走    时间: 2016-6-22 16:22
这是我按你的提示画出的图,和你的一样吗?
作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 16:29
标题: RE: 表面吸附问题求指导
一直走 发表于 2016-6-22 16:22
这是我按你的提示画出的图,和你的一样吗?

我建的是Mo在上面,以前算过S在上面的好像算不下去一直失败,我也就不了了之,后面一直都算的Mo在上面,优化前如图。(谢谢大家的积极回帖和帮助
作者
Author:
liu_tiao    时间: 2016-6-22 16:43
本帖最后由 liu_tiao 于 2016-6-22 16:46 编辑
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 16:29
我建的是Mo在上面,以前算过S在上面的好像算不下去一直失败,我也就不了了之,后面一直都算的Mo在上面, ...

正常的MoS2(001)面是楼上那样的。表面全部是S原子,可能不会和碱性氮分子作用,所以吸附无法进行。但是你这样强行把Mo原子暴露出来,肯定是有问题的,和真实情况不一致,从热力学讲肯定也不稳定,所以几何优化之后,结构出现了很大的重构。建议你去找找文献,我看见过类似的文献。

作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 16:45
标题: RE: 表面吸附问题求指导
这个是另一个算完后的CONTCAR文件,简直乱成一团。。
试过真空层设大或小都会出现这种情况


作者
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 16:52
liu_tiao 发表于 2016-6-22 16:43
正常的MoS2(001)面是楼上那样的。表面全部是S原子,可能不会和碱性氮分子作用,所以吸附无法进行。但是 ...

啊。。原来是这样,那我找找你说的文献看下,这样子的话我这篇文章岂不是不能这么写啦
作者
Author:
一直走    时间: 2016-6-22 17:01
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 16:52
啊。。原来是这样,那我找找你说的文献看下,这样子的话我这篇文章岂不是不能这么写啦

你师姐用一层算出来了?也是吸附?
作者
Author:
yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 17:24
一直走 发表于 2016-6-22 17:01
你师姐用一层算出来了?也是吸附?

对呀,所以我觉得不合理呢
作者
Author:
一直走    时间: 2016-6-22 17:30
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 17:24
对呀,所以我觉得不合理呢

你先重复一下你师姐的实验,完全重复,看看到底是哪里有问题~
作者
Author:
yuenanshuyao    时间: 2016-6-22 17:34
一直走 发表于 2016-6-22 17:30
你先重复一下你师姐的实验,完全重复,看看到底是哪里有问题~

嗯嗯,我也找了些文献准备看看,再试试,谢谢你们
作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-6-22 18:52
yuenanshuyao 发表于 2016-6-22 17:34
嗯嗯,我也找了些文献准备看看,再试试,谢谢你们

表面不稳定就会产生表面重构,你却把下表面进行固定,来维持未弛豫的状态,这样的做法并不合理。不应该是Mo在上面, 否则切出来的表面会表面能相当大,应该是不稳定的,如果真空再小一点,整个吸附的分子确实有可能会被两个表面扯开。

我倒是建议取做S朝上的,如果做不出应该找一下原因,电子步难收敛或是离子步难收敛。个人觉得很大可能性是离子步没收敛,vasp就算电子步没收敛也会算下去,有可能是电子步没首先导致错误的能量变化和力,从而导致离子步难收敛,这样的情况纯表面可能很少出现,但对于吸附体系可能很容易呈现。另外我不知道你是否考虑DFT-D或者vdW-DF。

不妨连INCAR也一块传了。
作者
Author:
一直走    时间: 2016-6-22 19:52
卡开发发 发表于 2016-6-22 18:52
表面不稳定就会产生表面重构,你却把下表面进行固定,来维持未弛豫的状态,这样的做法并不合理。不应该是 ...

如果在吸附之前,底层未固定时优化一下表面(当然,可能优化不出来,也可能优化完之后结构变化特别大),然后以优化后的表面作为衬底,固定下面几层,上面进行吸附,会不会成功的几率会大点呢?
作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-6-22 20:08
一直走 发表于 2016-6-22 19:52
如果在吸附之前,底层未固定时优化一下表面(当然,可能优化不出来,也可能优化完之后结构变化特别大), ...

弄不清固定下表面有啥物理意义,做了固定也维持不了晶体内的那种状态,搞得SCF还很难收敛,根本起不到计算加速的作用,不如不做固定。有不少人认为固定了一部分能加速计算,这是以讹传讹的说法。
作者
Author:
一直走    时间: 2016-6-22 20:24
卡开发发 发表于 2016-6-22 20:08
弄不清固定下表面有啥物理意义,做了固定也维持不了晶体内的那种状态,搞得SCF还很难收敛,根本起不到计 ...

固定底层,应该不是为了加速计算吧,而且就算固定了,并不会减少计算量,但是如果不固定,在吸附的过程中,晶格结构就会发生变化,甚至偏离之前的真空层,这样就算正常结束,我们能单纯利用吸附能或者其它判别手段判断是否能吸附吗?毕竟吸附后的衬底与之前的相差可能会很大~
作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-6-22 20:34
一直走 发表于 2016-6-22 20:24
固定底层,应该不是为了加速计算吧,而且就算固定了,并不会减少计算量,但是如果不固定,在吸附的过程中 ...
晶格结构就会发生变化,甚至偏离之前的真空层
那只能说明层高未经过测试或者采用的方法不对,层高足够高的情况中心区域会慢慢呈现固体的性质,而该考虑色散修正的场合不考虑也会导致结构发生问题。
我们能单纯利用吸附能或者其它判别手段判断是否能吸附吗

吸附能只是一种热力学上的判断,严格来说考虑自由能才有参考价值。
毕竟吸附后的衬底与之前的相差可能会很大~

吸附之后吸附的分子和表面都有可能重构,这是很正常的。如果上表层的吸附会明显影响到下表层的性质,说明层高还是不充分的。
作者
Author:
一直走    时间: 2016-6-22 21:39
卡开发发 发表于 2016-6-22 20:34
那只能说明层高未经过测试或者采用的方法不对,层高足够高的情况中心区域会慢慢呈现固体的性质,而该考虑 ...

我明白了,如果衬底层数足够的话,上表面的吸附一般不会影响到底层原子,但是如果底层的原子在吸附的过程变化较大,就需要考虑是否为层数不够造成的,这时候最好做个层数测试,但是我看关于吸附的文章,无论衬底层数多少,都会固定1/2到2/3的厚度,貌似也就约定俗成了~非常感谢老师的耐心解答,每次都非常受益~
作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-6-22 21:47
一直走 发表于 2016-6-22 21:39
我明白了,如果衬底层数足够的话,上表面的吸附一般不会影响到底层原子,但是如果底层的原子在吸附的过程 ...

是啊,当然,层高充分的情况,固定与否可能不那么重要,层高不充分的情况,就算固定结果也不会好,何况固定会引进一些非物理因素进来,慎重使用为妙。
作者
Author:
yuenanshuyao    时间: 2016-6-23 16:56
标题: RE: 表面吸附问题求指导
卡开发发 发表于 2016-6-22 18:52
表面不稳定就会产生表面重构,你却把下表面进行固定,来维持未弛豫的状态,这样的做法并不合理。不应该是 ...

我也试图把层数加多一些,但是原子数太多学校的计算机算不动,S在上的时候还没开始算就停止了,k点Gamma 3*3*1

作者
Author:
卡开发发    时间: 2016-6-23 20:33
yuenanshuyao 发表于 2016-6-23 16:56
我也试图把层数加多一些,但是原子数太多学校的计算机算不动,S在上的时候还没开始算就停止了,k点Gamma  ...

你没明白我的意思,你的重构是因为你找了个不稳定的面,而不是层高不够导致的。

我可能没说清楚,建议你把当时计算S朝上的表面计算的结果打包来看看,停止必然是有原因的,来找找这个原因。
作者
Author:
yuenanshuyao    时间: 2016-6-26 14:09
卡开发发 发表于 2016-6-23 20:33
你没明白我的意思,你的重构是因为你找了个不稳定的面,而不是层高不够导致的。

我可能没说清楚,建议 ...

我又重新建模在算,S朝上3层原子层,跑到中间会停,出现的错误是Error EDDDAV: Call to ZHEGV failed. Returncode =  64 472(后面的数字有时候不一样)
麻烦老师帮我看看是什么问题吧?


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卡开发发    时间: 2016-6-26 14:35
本帖最后由 卡开发发 于 2016-6-26 14:46 编辑
yuenanshuyao 发表于 2016-6-26 14:09
我又重新建模在算,S朝上3层原子层,跑到中间会停,出现的错误是Error EDDDAV: Call to ZHEGV failed. Re ...

最底下那一排单独的S原子是怎么来的?还有,分子放得离表面太近了,即便不出问题,弛豫也要花很长时间。
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-26 14:59
卡开发发 发表于 2016-6-26 14:35
最底下那一排单独的S原子是怎么来的?还有,分子放得离表面太近了,即便不出问题,弛豫也要花很长时间。

建好模型就是这样,它是周期性结构,所以底下那层应该是和顶部那层一样的吧,老师看看我贴出来的输出文件,Error EDDDAV: Call to ZHEGV failed. Returncode =  64 472这种错误是什么原因呢?
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卡开发发    时间: 2016-6-26 15:03
yuenanshuyao 发表于 2016-6-26 14:59
建好模型就是这样,它是周期性结构,所以底下那层应该是和顶部那层一样的吧,老师看看我贴出来的输出文件 ...

不对,这里这个单层的S是独立的,显然不合理。还有,分子不要放太近。按我说的试一下,看看是否仍然存在问题。若仍然出现EDDDACV的问题,再换成ALGO=V或者F不迟。
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yuenanshuyao    时间: 2016-6-26 15:33
卡开发发 发表于 2016-6-26 15:03
不对,这里这个单层的S是独立的,显然不合理。还有,分子不要放太近。按我说的试一下,看看是否仍然存在 ...

好的,谢谢老师指导,我这样试试看行不行,现在的体系没什么问题吧?
作者
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卡开发发    时间: 2016-6-26 16:02
yuenanshuyao 发表于 2016-6-26 15:33
好的,谢谢老师指导,我这样试试看行不行,现在的体系没什么问题吧?

如果分子物理吸附的话,最好放在2~3A左右比较好。
作者
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一直走    时间: 2016-7-10 20:20
卡开发发 发表于 2016-6-26 16:02
如果分子物理吸附的话,最好放在2~3A左右比较好。

老师,我在做Cu团簇在SiO2(111)表面吸附的时候,算出来的Mulliken电荷,Cu都是负值,但是,按道理来说Cu应该是正值呀,不知道这是什么原因呢?
作者
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卡开发发    时间: 2016-7-10 20:47
一直走 发表于 2016-7-10 20:20
老师,我在做Cu团簇在SiO2(111)表面吸附的时候,算出来的Mulliken电荷,Cu都是负值,但是,按道理来说C ...

看看电荷密度差和形变电荷密度,看看趋势是否一致。




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