卡开发发 发表于 2016-5-30 12:40
镜像产生的电势和相互作用只能通过偶极修正来消除,氢钝化起不到效果;个人觉得氢钝化只能解决共价晶体切面 ...
liu_tiao 发表于 2016-5-30 13:59
卡哥,在我印象中,簇这种孤立体系,才用H饱和;slab,都是加偶极修正啊
卡开发发 发表于 2016-5-30 14:42
大体上应该认为现在用的slab模型也是半无穷高且2D无限延展的表面体系挖下来的一块2D无限延展的层,然后把 ...
一直走 发表于 2016-5-30 21:54
恩,谢谢老师,有的时候我在文献中看到会考虑到覆盖率的问题(1/4ML或2/4ML等),有的文献就没有提,请问 ...
卡开发发 发表于 2016-5-31 07:12
吸附质间如果还有相互作用,如内聚(如膜胺)或者排斥都该考虑。一般如果文献没考虑,多半是认为所选取的 ...
卡开发发 发表于 2016-5-31 07:12
吸附质间如果还有相互作用,如内聚(如膜胺)或者排斥都该考虑。一般如果文献没考虑,多半是认为所选取的 ...
一直走 发表于 2016-6-2 08:34
老师,还想请教您一个问题,会不会有些晶面切完之后确实有优化不出来的情况,例如我最近在优化SiO2(111) ...
卡开发发 发表于 2016-6-2 09:17
结构(xsd或者cif)还有input或者param文件发来看看,有些问题还是得检查一下,比如是否符合计量比等因素 ...
一直走 发表于 2016-6-2 09:28
下图是切的4个原子层和8个原子层,计算参数一样
卡开发发 发表于 2016-6-2 12:08
这两个结构我都试了一下单胞,发觉表面都出现了很严重的再构(这意味直接切的表面离最终的结构差距较大) ...
卡开发发 发表于 2016-6-2 12:08
这两个结构我都试了一下单胞,发觉表面都出现了很严重的再构(这意味直接切的表面离最终的结构差距较大) ...
一直走 发表于 2016-6-22 08:48
老师,再请教您一个问题,我在用O替换石墨中的C时,算DOS和band structure,正常结束,但是我把O换成N, ...
卡开发发 发表于 2016-6-22 10:20
这个Warning不是错误,如果有提示出错,把outmol发来看下。
liu_tiao 发表于 2016-6-22 10:37
warning,有些不用管,没事。error才是错误啦。
卡开发发 发表于 2016-6-22 10:52
这个Waring应该是计算的时候采用了smearing,所以程序默认就不采用四面体的方法对DOS进行计算了,造成错 ...
一直走 发表于 2016-6-22 11:03
恩,对,没有错误提示,只有最后一行提示了Waring,然后band structure的out文件也没出来,我是不是应该 ...
卡开发发 发表于 2016-6-22 11:41
不去掉也能做出来,问题可能不是这个。你把其他文件都打包上来看看吧,这里暂时没记录错误信息。一般到布 ...
一直走 发表于 2016-6-22 12:52
谢谢老师,解释的很详细,刚接触MS,对各方面都在摸索中,多谢老师的提示了~
1). 我现在还没接触到怎么 ...
卡开发发 发表于 2016-6-22 13:59
1、可以。我的意思正是如此,不知道如何平移网格的话直接取奇数就行;
3、没啥参考价值,建议最好考查输 ...
卡开发发 发表于 2016-6-22 13:59
1、可以。我的意思正是如此,不知道如何平移网格的话直接取奇数就行;
3、没啥参考价值,建议最好考查输 ...
卡开发发 发表于 2016-6-24 12:47
1、可以忽略,程序只是不按照四面体的方法来做非自洽的过程而已;
2、如果要计算性质的话自然要勾选上prop ...
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