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标题: 水化硅铝酸钠(NASH)裂纹拉伸模拟，使用OVITO绘制应力云图不均匀且没有出现应力集中 [打印本页]

作者
Author: Jerry_Fan 时间: 2023-10-5 17:21
标题: 水化硅铝酸钠(NASH)裂纹拉伸模拟，使用OVITO绘制应力云图不均匀且没有出现应力集中
本帖最后由 Jerry_Fan 于 2023-10-5 17:26 编辑

如图，对含有裂纹的水化硅铝酸钠(NASH)模型在LAMMPS中进行拉伸模拟（采用deform方法），使用 compute stress/atom 和 voronoi 命令计算得到单原子的应力，再使用OVITO绘制应力云图，结果云图不均匀且没有出现应力集中的现象。模拟采用的力场是反应力场。我不是很理解，参考文献的材料是二氧化硅，应力云图也如下所是。这是什么原因呢？我的模型的应力应变曲线是没有问题的。
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作者
Author: kimwyy 时间: 2024-1-20 00:50
本帖最后由 kimwyy 于 2024-1-20 00:53 编辑

文献中的应力云图似乎不是直接计算原子应力，在ovito中显示。可采取chunk/atom分块命令和ave/chunk命令输出应力，在origin中出图。

作者
Author: xixilili 时间: 2025-11-10 20:07
您好，请问应力不集中的问题解决到了吗？我也遇到了同样的问题

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