本人刚接触lammps不足3个月，有很多基本概念不懂，求助各位大神。做的是镁铝尖晶石与乙二醇的化学机械抛光仿真。上下都为镁铝尖晶石多晶，中间是乙二醇和水的溶液。仿真步骤为上层的一半addforce来挤压下方原子，溶液同时流动来模拟CMP过程。在挤压过程中出现Non-numeric atom coords - simulation unstable的错误。我试过调小时间步至0.01fs，删除重叠原子这种方法但没效果。有没有大佬能帮忙回答下问题，这个错误会与程序运行过程中的warning：Van der Waals parameters for element AL indicate inner wall+shielding, but earlier atoms indicate a different van der Waals method. This may cause division-by-zero errors. Keeping van der Waals setting for earlier atoms.有关吗