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标题: 求助：计算PO4在表面成键的DOS文件时，是否可以使用XY周期性 [打印本页]

作者
Author: SodaaMegaa 时间: 2024-4-2 15:56
标题: 求助：计算PO4在表面成键的DOS文件时，是否可以使用XY周期性
如题，我计算的是PO4在钙钛矿表面成键后（如下图），通过对比TDOS（无PO4和有PO4）图像来判断是否会对表面形成缺陷。

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我分别尝试将&PERIODIC设为XY和XYZ，得到的TDOS结果却大相径庭。两个dos计算除了PERIODIC的设置外，唯一的区别在于使用XY周期性计算时，我并未留下vacuum，在使用XYZ周期性计算时，我给整个系统上下各留了7A的真空。请问各位老师，我的哪个做法是合适的呢？如果二者都不合适，请问老师们有什么好的调整方法吗？（inp文件是使用了multiwfn生成的）

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(, 下载次数 Times of downloads: 6) 以及请问各位老师在仅计算成键的DOS的情况下，使用哪个周期性（XY or XYZ）是更合理的呢？以及，XYZ和XY周期性的设置一般有什么规则或各适用于什么情况呢？

非常感谢各位老师！！

作者
Author: sobereva 时间: 2024-4-3 18:04
XY周期性时怎么可能不留真空，这是致命错误

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