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标题: DFT+U对cp2k优化和单点能有影响吗? [打印本页]

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yiranfengbai    时间: 2024-8-14 10:24
标题: DFT+U对cp2k优化和单点能有影响吗?
本帖最后由 yiranfengbai 于 2024-8-15 01:42 编辑

各位老师好,我使用CP2K-PBE-DZVP-MOLOPT-SR-GTH优化四个磁性表面模型,原子数分别是100、156、212、268(分别固定底层:20、76、132、188),截断能450Ry,DFT+U(3.3、2.5),磁矩也按照文献设置正确-4、4、3(实验:-3.98、4.05、2.78),第一个结构耗时9个小时,第2个耗时25个小时,相同的结构后续还要计算32个!这样太耗时了,所以想在优化和单点时去掉DFT+U,使用k点,不知道是否对结果有影响(主要是表面能、粘附功)

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sobereva    时间: 2024-8-15 00:13
+U原理上几乎不额外增加耗时,只是个非常简单的校正。显然对+U敏感的问题,是否+U、具体Ueff值,都会不可忽视地影响结果
考虑k点问题是另一码事,在原理上和+U完全没直接关系,别搅合在一起

作者
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yiranfengbai    时间: 2024-8-15 01:40
sobereva 发表于 2024-8-15 00:13
+U原理上几乎不额外增加耗时,只是个非常简单的校正。显然对+U敏感的问题,是否+U、具体Ueff值,都会不可忽 ...

明白了,谢谢老师。对于我的体系,看来还是要全程考虑+U的影响。目前我们的工作是测试模型的厚度,然后计算表面能。由于存在多种暴露晶面,所以需要测试的很多,耗时太久,
1:能否直接使用模型2呢(已经上传了其中一个切面的1、2、3、4模型);
2:将截断能500Ry修改为450Ry、EPS_SCF1E-6改为1E-5、MINIMIZER CG改为DIIS,发现模型1的耗时从9小时减小到5小时左右,但只出现2个YES(原来4个YES),似乎是有效的方法,然后在此基础上再改回原来的设置。这样的做法可行吗?
希望老师能在百忙之中指点下学生,此外,是否还有其他加速优化的方法。谢谢老师




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