最近入手使用Materials studio的castep计算SnTe这类半导体的一些能带和DOS,目的是能够实现接近文献报道的能带结构(重要参考值:带隙和∆EL-Σ),按照多篇文献中给出的参数 和 自己优化的截断能/K网格参数, ...
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