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[VASP] ABO4型半导体吸附H,力不收敛

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Level 2 能力者

求助各位老师, 本人用VASP计算ABO4吸附氢时,吸附位点的力总是变化很大,上一步还是0.1eV/Å 下一步九城了0.01eV/Å,这样一直飘忽不定,也试过很多方法包括修改初始模型,初期用CG后面改用QN,缩小EDIFF至10-6, 但都没有效果,各位老师有什么好的思路吗?附上INCAR 和TOTAL-FORCE截图。











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Level 6 (一方通行)

2#
发表于 Post on 2020-12-4 08:55:12 | 只看该作者 Only view this author
给个吸附位点附近的结构图?
BDF(https://bdf-manual.readthedocs.io/zh_CN/latest/Introduction.html)、ORCA(https://orcaforum.kofo.mpg.de/index.php)开发团队成员

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Level 3 能力者

3#
发表于 Post on 2023-5-24 15:23:03 | 只看该作者 Only view this author
后来或许解决了吗?

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