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[CP2K] 求助:计算PO4在表面成键的DOS文件时,是否可以使用XY周期性

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如题,我计算的是PO4在钙钛矿表面成键后(如下图),通过对比TDOS(无PO4和有PO4)图像来判断是否会对表面形成缺陷。


我分别尝试将&PERIODIC设为XY和XYZ,得到的TDOS结果却大相径庭。两个dos计算除了PERIODIC的设置外,唯一的区别在于使用XY周期性计算时,我并未留下vacuum,在使用XYZ周期性计算时,我给整个系统上下各留了7A的真空。请问各位老师,我的哪个做法是合适的呢?如果二者都不合适,请问老师们有什么好的调整方法吗?(inp文件是使用了multiwfn生成的)


以及请问各位老师在仅计算成键的DOS的情况下,使用哪个周期性(XY or XYZ)是更合理的呢?以及,XYZ和XY周期性的设置一般有什么规则或各适用于什么情况呢?

非常感谢各位老师!!


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2#
发表于 Post on 2024-4-3 18:04:49 | 只看该作者 Only view this author
XY周期性时怎么可能不留真空,这是致命错误



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