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[VASP] 求助:Vasp计算In2O3ELF图,表面氧空位电子离域

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本帖最后由 让风推动帆船 于 2024-5-21 09:11 编辑

用Vasp计算了一个Co-Vo-In2O3表面的ELF,想看看表面氧空位与钴原子之间是否存在电子传输通道(看别人文章的思路,见下图)

可是我的结果表面氧空位电子离域,不符合文献和逻辑,想问问老师们这可能是什么原因导致的?



这是INCAR的设置参数

   PREC   = High
   ENCUT  = 450 eV
   NELMIN= 5
   LREAL = Auto   
   ALGO = Fast
   EDIFF  = 1E-6  
   NCORE = 10     
   NELM = 100
   ICHARG = 2
   NSW    = 0
   IBRION = -1
   LCHARG = T   
   LELF =  T
   LREAL = F
   LVHAR = T
   LREAL = Auto
   IVDW = 11



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发表于 Post on 2024-5-21 00:32:09 | 只看该作者 Only view this author
体系自身的差异,或者计算级别的差异,或者其它设定差异(净电荷等)
排除前者可能,先去重复文献里相应体系
排除后者可能,用文献里相同计算级别,特别是泛函。注意纯泛函容易导致电子过度离域,可考虑杂化泛函(VASP杂化泛函是否算得动我不清楚,CP2K用杂化泛函算这种规模的体系轻轻松松)
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 楼主 Author| 发表于 Post on 2024-5-21 00:47:27 | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 让风推动帆船 于 2024-5-21 00:52 编辑
sobereva 发表于 2024-5-21 00:32
体系自身的差异,或者计算级别的差异,或者其它设定差异(净电荷等)
排除前者可能,先去重复文献里相应体 ...

好的,谢谢sob老师,按照您的回复,我排除一下问题。非常感谢。

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