使用CP-VASP进行恒电势AIMD模拟时，计算速度极慢，POTLOK时间极长

粉川桜雪

老师们，我在使用cp-vasp进行恒电势AIMD模拟时，发现电子步计算速度极慢，POTLOK常常需要几十秒。对于一个小的 Cu (100)面加上真空层进行模拟，POTLOK时间仍然非常长，请问是什么原因呢？希望各位老师能够抽空看一下，谢谢！

卡开发发

我没用过cp-vasp不确定，但作为讨论我猜测可能是溶剂化导致的。正常Hartree势解Poisson方程对电子密度一次正反FFT就行，但有溶剂化的情况Hartree势得迭代解，这通常会要更多的时间，如果你再使用PREC=Accurate，电子密度网格本身就密集，就会更慢。