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[CASTEP/Dmol3/MS] 关于请教若干计算的能带结果问题

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楼主
用dmo3l计算出纯Si的能带为零点几,PBE和HSE的结果都这样。而Si表面吸附分子的体系能带结果为零点零几,感觉过于偏小,这样的结果是否可用合理?  不合理怎么修正?   另外想问一个比较宽泛的问题:我们得到的计算结果(能量、能垒、能带、电荷分析等等)与实际值在多大的误差内有效(能用于发文章)。十分感谢!

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发表于 Post on 2018-3-15 11:55:26 | 只看该作者 Only view this author
HSE算Si的bulk结果不会那么差吧,你的计算可能出了什么问题,这方面的测试应当已经很多。表面倒是有可能导致带隙收窄,一般很大可能是因为表面态导致的。
日常打哑谜&&探寻更多可能。
原理问题不公开讨论,非商业性质讨论欢迎私聊。不做培*,不接代*,不接*发谢谢。

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2018-3-15 13:20:25 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2018-3-15 11:55
HSE算Si的bulk结果不会那么差吧,你的计算可能出了什么问题,这方面的测试应当已经很多。表面倒是有可能导 ...

谢谢,吸附体系带隙太小呢,结果能用吗。。。

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发表于 Post on 2018-3-15 14:03:23 | 只看该作者 Only view this author
luoshan393 发表于 2018-3-15 13:20
谢谢,吸附体系带隙太小呢,结果能用吗。。。

如果参数设置合理带隙仍然比较窄,尤其是能够指认表面态的情况,我觉得完全没问题。就怕使用的参数不合理算的不对,那就很难说了。
日常打哑谜&&探寻更多可能。
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