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[CASTEP/Dmol3/MS] 吸附计算时,关于终端原子的选择原则求助

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小弟在计算Al2O3吸附某一种物质,查资料发现Al原子终端(Al-terminated )比O原子终端(O-terminated)面要稳定,那么在计算的时候,考虑两种终端,计算其表面能,利用公式

计算表面能。在选取吸附终端原子的时候,是什么原则呢,是能量低稳定的面吸附呢还是能量高不稳定的面吸附呢?我原来以为是稳定面吸附,选择能量低的面,但是看文献有的是用不稳定面吸附,说不稳定面更容易发生吸附。
请教各位怎么选择呢?

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2021-4-30 16:34:05 | 只看该作者 Only view this author
计算公式是

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发表于 Post on 2021-4-30 20:52:17 | 只看该作者 Only view this author

有别人回复之前若需要对帖子进行修改、补充,应直接编辑原帖,不要通过回帖进行补充,这点在置顶的新社员必读贴里明确说了。
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发表于 Post on 2021-5-1 09:30:26 | 只看该作者 Only view this author
看研究的问题而定,特别不稳定的面可能还没用于吸附的应用说不定就重构了
日常打哑谜&&探寻更多可能。
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发表于 Post on 2021-5-1 21:40:08 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2021-5-1 09:30
看研究的问题而定,特别不稳定的面可能还没用于吸附的应用说不定就重构了

请问特别不稳定的面,切完slab后进行优化会得到重构的表面吗?

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发表于 Post on 2021-5-1 23:16:17 | 只看该作者 Only view this author
archer 发表于 2021-5-1 21:40
请问特别不稳定的面,切完slab后进行优化会得到重构的表面吗?

有可能在足够长的弛豫步数下是可以的。
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 楼主 Author| 发表于 Post on 2021-5-6 14:51:51 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2021-5-1 23:16
有可能在足够长的弛豫步数下是可以的。

对于O终端和Al终端,都可以优化得到一个稳定的面,那么计算吸附的时候,是两个面都考虑吗。

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发表于 Post on 2021-5-6 15:04:54 | 只看该作者 Only view this author
雁笑云散 发表于 2021-5-6 14:51
对于O终端和Al终端,都可以优化得到一个稳定的面,那么计算吸附的时候,是两个面都考虑吗。

按道理两个都需要考虑。
日常打哑谜&&探寻更多可能。
原理问题不公开讨论,非商业性质讨论欢迎私聊。不做培*,不接代*,不接*发谢谢。

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2021-5-8 22:29:46 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2021-5-6 15:04
按道理两个都需要考虑。

好的,那如果最终计算的吸附能哪个大或者吸附功哪个大就哪个更稳定吗,大师。

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发表于 Post on 2021-5-8 23:06:48 | 只看该作者 Only view this author
雁笑云散 发表于 2021-5-8 22:29
好的,那如果最终计算的吸附能哪个大或者吸附功哪个大就哪个更稳定吗,大师。

吸附能大的未必稳定。
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