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[CP2K] 锂离子和溶剂分子在锂金属表面体系,cp2k和vasp跑aimd完全不同的结果

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这里对一个锂离子和溶剂分子在锂金属表面跑了一段动力学,对于cp2k来说,跑了300fs锂离子就掉下去了,而对于vasp来说,锂离子还有往上走的趋势。

K点设置是Gamma点。

这里想问的问题是为什么同样的构型,会有完全不一样的动力学过程,是因为参数设置的原因么。

202504031607043166..png (89.48 KB, 下载次数 Times of downloads: 1)

600 fs vasp构型

600 fs  vasp构型

202504031606257310..png (199.96 KB, 下载次数 Times of downloads: 3)

300fs cp2k构型

300fs cp2k构型

202503271456478963..png (105.94 KB, 下载次数 Times of downloads: 2)

初始构型

初始构型

INCAR1

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vasp aimd文件

aimd.inp

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cp2kaimd文件

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2#
发表于 Post on 2025-4-3 22:49:58 | 只看该作者 Only view this author
明明是LiF表面,根本不是Li金属表面

当前体系净电荷为0,并没体现出是锂离子结合溶剂分子

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2025-4-4 14:51:46 | 只看该作者 Only view this author
sobereva 发表于 2025-4-3 22:49
明明是LiF表面,根本不是Li金属表面

当前体系净电荷为0,并没体现出是锂离子结合溶剂分子

嗯,我是在LiF的表面上挖了一个Li空穴,这里想设置的是不带电的空穴,需要给体系设置电荷吗。

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