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[Lammps] LAMMPS模拟氧化铝/水界面,平衡过程水向真空层严重扩散问题的求助

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各位老师,我在用LAMMPS模拟一个较简单的氧化铝/水的模拟,具体操作及遇到的问题如下:
首先我用MS构建了初始的界面模型,并在z方向加了较大的真空层。我在LAMMPS中令氧化铝为刚体、对水溶液做郎之万NVT控温,但是整个水就会向着真空层十分严重地扩散。我也尝试过逐渐升高温度,在低温下能保持较好的结构,但是当温度升高到300K以后,还是出现了同样的问题。请问各位老师是否有解决方案呢。(氧化铝我切割时也保证了是电中性的O终端表面,没有进行羟基化处理是因为想先平衡一段时间后换用reaxff,但是出现了该问题)


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