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[Gaussian/gview] HF2-与二氧化硅反应过渡态寻找失败的求助

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本帖最后由 xinxin19 于 2026-3-2 13:43 编辑

各位老师好,我最近正在寻找HF2-离子与二氧化硅反应时的过渡态,但是试了很多次都没能成功找到;我的想法是其中一个F进攻Si,另一个F靠近-OH,利于-OH与H结合脱水离去,但是迟迟找不到(一直报l9999的错误);所以想请各位老师给一点想法,怎样调整其初始结构能更合理呢。

202602280932236323..png (55.44 KB, 下载次数 Times of downloads: 5)

202602280932236323..png

ts_HF6.rar

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ts_HF6.gjf

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发表于 Post on 3 day ago | 只看该作者 Only view this author
问问题一定要上传输出文件,不能只上传输入文件,否则别人还得从头跑一遍才能知道报的什么错
Zikuan Wang
山东大学光学高等研究中心 研究员
BDF(https://bdf-manual.readthedocs.io/zh_CN/latest/Introduction.html)、ORCA(https://orcaforum.kofo.mpg.de/index.php)开发团队成员
Google Scholar: https://scholar.google.com/citations?user=XW6C6eQAAAAJ
ORCID: https://orcid.org/0000-0002-4540-8734
主页:http://www.qitcs.qd.sdu.edu.cn/info/1133/1776.htm
GitHub:https://github.com/wzkchem5
本团队长期招收研究生,有意者可私信联系

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 楼主 Author| 发表于 Post on 3 day ago | 只看该作者 Only view this author
wzkchem5 发表于 2026-2-28 12:49
问问题一定要上传输出文件,不能只上传输入文件,否则别人还得从头跑一遍才能知道报的什么错

好的,老师,我已经上传了输出文件,还请您指点一下过渡态的问题

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发表于 Post on 前天 06:23 | 只看该作者 Only view this author
xinxin19 发表于 2026-2-28 06:54
好的,老师,我已经上传了输出文件,还请您指点一下过渡态的问题

单纯的不收敛罢了。问题有两点:
1. 电荷应该是-1而不是+1吧,你现在的设置是+1
2. 计算本身感觉没什么意义,你说你算的是HF腐蚀SiO2,但是分子结构是原硅酸,和SiO2差别很大。sob老师经常强调,周期性的体系大部分时候不是切一个小团簇出来算一算就是可以的,该用周期性计算就用周期性计算,这种团簇的机制大概率对于你要研究的问题没有任何意义。

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 楼主 Author| 发表于 Post on yesterday 13:41 | 只看该作者 Only view this author
-HMDS- 发表于 2026-3-1 06:23
单纯的不收敛罢了。问题有两点:
1. 电荷应该是-1而不是+1吧,你现在的设置是+1
2. 计算本身感觉没什么 ...

奥奥,十分感谢!我将-1改成了+1,还是没能收敛,依旧是l9999错误;应用CP2K进行过渡态寻找好像更复杂,所以我想现在高斯中找到过渡态,然后后续可以的话用CP2K可能会更好收敛吧;
然后还请指教一下,您觉着HF2-与SiO2反应的过渡态怎么摆可能更容易收敛嘛

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发表于 Post on 11 hour ago | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 -HMDS- 于 2026-3-2 22:37 编辑
xinxin19 发表于 2026-3-2 06:41
奥奥,十分感谢!我将-1改成了+1,还是没能收敛,依旧是l9999错误;应用CP2K进行过渡态寻找好像更复杂, ...

我觉得你在做计算之前应该先把化学的基础知识好好学一边,而不是乱算。

1 +1变-1,不是-1变+1.我看到你更正后的文件,和之前的结构完全不一样了,你把连的OH都换成了OSiH3. 电荷要根据你算的是什么体系而定,不要乱填数字尝试。
2 还是之前的观点,这个计算对于周期性没有任何参考价值,根据你之前的回复,我觉得你应该先学学cp2k之类的怎么运行的,你对于计算的认识过于浅薄。现在干的事情只是在浪费机时。
3 附带的图片看上去就不可能合理F进攻Si和F接近OH就不可能同时的,这又不是周环反应。离子型的大部分都是会分步骤的,先离子化,再进攻脱去。相关的机制过程有机化学一定讲的。强烈建议先学习一下有机反应机理相关内容。如果是化学本科这个东西不可能没学过的。

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 楼主 Author| 发表于 Post on 5 hour ago | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 xinxin19 于 2026-3-3 11:30 编辑
-HMDS- 发表于 2026-3-3 05:36
我觉得你在做计算之前应该先把化学的基础知识好好学一边,而不是乱算。

1 +1变-1,不是-1变+1.我看到 ...

奥奥,问题1我是根据其他文章中计算二氧化硅与其他小分子反应时的簇模型进行调整后的计算,HF2-离子带负电荷,我填的确实是-1,回复的时候抱歉写错了
问题2我正在接触,现阶段先用簇模型进行探究
问题3我是根据几篇文献中的相同结论进行了如此的计算,HF2-中一个F进攻Si,另一个F是靠近-OH,文章提出的这个想法我想进行验证;此外还有其他文献提出HF溶液刻蚀OX的反应速率为:R = 510[F⁻] + 610[HF] + 2890[HF₂⁻] (Å/min),也就是说HF2-是参与反应的,您说的HF2-先离子化再进攻能够再展开说说么,是指HF2-电离成为HF和F-,再参与反应么,但是这好像跟文章中的实验数据不符,因为实验数据是明确提出HF2-是主要参与刻蚀的反应物;所以更多原因应该还是我的过渡态初始结构不太合理,导致不收敛,所以我更想请大家再帮我看一下可能的过渡态结构。

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