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[VASP] 优化后结构散了,NH2与NO(NO)共同存在表面时

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本帖最后由 章鱼哥 于 2026-3-9 16:47 编辑

CeO2掺杂W的结构中,构建中间体NH2*NOg)分开的结构时,优化多次不成功。我设置的原子距离如图中所示。我依照文献中大概的距离操作的,没看到文献中有具体的NOg)距离表面的影响。
具体出现的错误如下:
1.每次优化这个中间体结构都会出现不同程度的散,如图所示。
2.原子的位置优化后移动,N原子跑到下面,如图所示。
想请教一下大家,为什么会出现这种情况,应该怎么解决这个问题?
                     

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发表于 Post on 前天 10:14 | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 白皛白 于 2026-3-10 10:20 编辑

从个人经验来讲,这种小分子在真空层中的结构完全relax的话,的确是很难优化出来的。可能是因为NO吸附在表面上是能量更低,而从NO+*→*NO这个过程又往往是无能垒的,所以很容易在结构优化过程中自发地跑过去。跑到“下面”去实际上是往上跑,到另一个周期性结构的下表面去了。楼主您目前使用的3埃这个距离不是化学键的距离,但是很难确定能否可以避免NO与表面间的弱相互作用,出现这种情况很可能是这个原因。
个人给出几点建议,楼主可以尝试一下。
1,真空层加大,目测目前的真空层是10埃左右的样子,加到15埃然后把NO放的更远(距离上下表面都有7~8埃的距离),问题或许会解决。
2,限制性优化,NO提前优化好,放进去以后就固定NO的Z轴坐标。距离表面够远(实际上也是7-8埃左右,从经验来看这个距离一般可以避免任何相互作用)的话也是合理的。
示范1的例子,个人感觉可能不是错误,因为*NH2桥位吸附在Ce上是可能导致N-H键高度活化的,这样NO夺走*NH2的H是合理的。这里建议楼主一步一步来。先把吸附NH2的例子优化好,再尝试如上述两个建议这样添加NO。

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 楼主 Author| 发表于 Post on yesterday 16:01 | 只看该作者 Only view this author
白皛白 发表于 2026-3-10 10:14
从个人经验来讲,这种小分子在真空层中的结构完全relax的话,的确是很难优化出来的。可能是因为NO吸附在表 ...

谢谢您的回复,您预测的没问题,上面的真空层大概是10多埃,没到15埃,由于我计算的是过渡态,统一用的都是一个标准,所以没有增大埃。我按照您的建议,把NO优化了再放上去,上下留出了大概5埃到6埃左右,并且我把NH2与表面作为一个整体优化了一遍。提交了结果,得到的CONTCAR没问题。不会变形,结构没散,非常感谢您的建议!!!

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