捐赠本论坛 (Donate this site)
开启辅助访问 切换到宽版

计算化学公社

 找回密码 Forget password
 注册 Register
计算化学公社»论坛首页 › 理论与计算化学 (Theoretical and Computational Chemistry) › 第一性原理 (First Principle) › 表面吸附计算中，切完表面之后带隙消失的问题怎么解决
返回列表 Return 发新帖
Views: 400|回复 Reply: 0
打印 Print 上一主题 Last thread 下一主题 Next thread

[VASP] 表面吸附计算中，切完表面之后带隙消失的问题怎么解决

[复制链接 Copy URL]
一苇以航

4

帖子

0

威望

109

eV
积分
113

Level 2 能力者
跳转到指定楼层 Go to specific reply
楼主
发表于 Post on 2024-4-18 17:20:59 | 只看该作者 Only view this author |只看大图 View big picture 回帖奖励 |正序浏览 |阅读模式 Reading model
在计算中使用了DFT+U，在单胞中可以计算出带隙，但是切完表面之后发现DOS图中带隙消失，做完分子吸附后计算内功吸附态时带隙又出现了。这种情况时什么原因呢，要怎么解决。

111.png (96.16 KB, 下载次数 Times of downloads: 7)

表面优化后的DOS

表面优化后的DOS

12.png (18.49 KB, 下载次数 Times of downloads: 8)

共吸附态的DOS

共吸附态的DOS
回复 Reply

举报 Report

返回列表 Return 发新帖

手机版 Mobile version|北京科音自然科学研究中心 Beijing Kein Research Center for Natural Sciences|京公网安备 11010502035419号|计算化学公社 — 北京科音旗下高水平计算化学交流论坛 ( 京ICP备14038949号-1 )|网站地图

GMT+8, 2024-11-24 21:30 , Processed in 0.211158 second(s), 24 queries , Gzip On.

快速回复 返回顶部 返回列表 Return to list