过渡态idpp.pl距离判断远的问题，过渡态插点不合理；甲烷化反应计算问题

CCYY

打扰大家，我是过渡态计算的小白（计算的过程是甲烷化过程）
    问题1：请问disp.pl IS/POSCAR FS/POSCAR 显示的距离并不是最近的距离，很多时候是跑出晶胞外来进行插点，并不能保证距离最近的插点，这是为什么？我已经保证了初末态原子的一一对应。 有时候对于其他体系就可以，然而换了一个基底材料进行过渡态计算，显示距离就不一样，导致插点结构不一样。请问如何保证插点的反应路径是最近的且合理的，比如该图，我想要1的路径然而无论我如何调整原子序号，总是给我2的路径，跨过该晶胞通过另一侧进行插点。

    问题2：初末态的位置问题：反应初始态和末态必须保证是在基底上的最低吸附能（大于5埃也无所谓），还是只要是各自的吸附位点稳定存在就行（优先保证反应前后距离别太远<5埃）；我也测试过有的反应，初态距离末态3埃和5埃的距离计算出的能垒差别并不大，然而大于5埃的情况，能垒会发生改变（目前测试的一个是能垒由0.93降低至0.23）

    问题3：如何初始状态结构优化时就不存在，是不是证明该反应无法进行，比如CH3+H=CH4的过程，CH3和H原子放在基底上时CH3直接发生分解，因此导致无法计算过渡态。这个我有很大的疑问，因为实验产物是存在CH4的，然而计算却无法和实验相互映照。
    麻烦各位前辈解惑，十分感谢！

电催化萌新

第三个问题，有没有可能是生成甲烷与甲烷脱附在这个材料表面上，是同步进行的