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[Multiwfn使用咨询] 电子激发前后的密度差图不重叠

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现在在学习multiwfn, 优化好基态S0,然后用这个结构优化S1,然后做密度差图,但是最后做出来的图片没有重叠在一起。
优化S0:# opt b3lyp/6-31g scrf=(solvent=thf) geom=connectivity density out=wfn
得到fchk文件后,优化S1:# opt td=(root=1) rb3lyp/6-31g pop=savenbo geom=connectivity density out=wfn.
现在注意到S0时没有加入溶剂效应。现在的问题是,这种不重叠是因为这个溶剂效应导致的还是,我输入的优化后的S0时的坐标变了,看sober老师的文章,好像这时坐标没有影响,gaussian会自己调整的?

dislin.png (214.11 KB, 下载次数 Times of downloads: 24)

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2017-5-11 08:29:51 | 只看该作者 Only view this author
冰释之川 发表于 2017-5-11 08:15
你这两个点的波函数文件都得要S1结构的坐标。

理解了,谢谢冰老师

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发表于 Post on 2017-5-11 08:15:53 | 只看该作者 Only view this author
redfoxs 发表于 2017-5-11 06:19
冰老师,您好!sober老师的第一步是#p b3lyp/6-31+G* out=wfn nosymm,第二步是#p b3lyp/6-31+G* out=wfn ...

你这两个点的波函数文件都得要S1结构的坐标。
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 楼主 Author| 发表于 Post on 2017-5-11 06:19:50 | 只看该作者 Only view this author
冰释之川 发表于 2017-5-11 06:06
研究荧光过程的EDD,就都用S1结构

冰老师,您好!sober老师的第一步是#p b3lyp/6-31+G* out=wfn nosymm,第二步是#p b3lyp/6-31+G* out=wfn td(root=1,singlet) density,这里面都是用的同一个结构,第一步是优化基态结构,第二步是优化激发态结构,我的理解对吗,您说的都用S1的结构,是说输入的坐标文件要一样吗?

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发表于 Post on 2017-5-11 06:06:21 | 只看该作者 Only view this author
redfoxs 发表于 2017-5-11 06:04
sober老师,您好,非常感谢您的回复,您的意思是说两次优化都用最开始的那个结构:即优化S1不用S0优化后的 ...

研究荧光过程的EDD,就都用S1结构
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 楼主 Author| 发表于 Post on 2017-5-11 06:04:21 | 只看该作者 Only view this author
sober老师,您好,非常感谢您的回复,您的意思是说两次优化都用最开始的那个结构:即优化S1不用S0优化后的结构?

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发表于 Post on 2017-5-11 04:57:17 | 只看该作者 Only view this author
你分别优化两个结构,结构都不同,显然求密度差毫无意义

计算电子激发的密度差的时候只能用一个结构。研究荧光过程的密度变化就都用S1优化的结构,研究吸收过程的密度的变化就都用S0优化的结构。

跟溶剂效应毫无关系。

不用nosymm关键词的话,结构会被自动平移旋转到标准朝向,看此文
谈谈Gaussian中的对称性与nosymm关键词的使用
http://sobereva.com/297

另看此文绘制电子激发过程的密度差的例子
使用Multiwfn作电子密度差图
http://sobereva.com/113
手册4.18.3节也有例子
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