[Material Studio] VASP计算遇到吸附能与能垒值的变化趋势不对应的问题该怎么解决？

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发表于 Post on yesterday 21:42 | 只看该作者 Only view this author |只看大图 View big picture 回帖奖励

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求助，用VASP计算NH3在Cu-Co(111)表面的分解，表面模型为4×4，底部两层固定，上两层1:1交替掺杂，如图片附件所示。对于N+N→N2的反应，N原子在Co(111)和Cu(111)表面的吸附能分别为-5.53eV和-5.26eV，但N+N→N2的反应能垒为Co(111)表面1.83eV，Cu-Co111表面2.09eV（已经过零点能校正），不符合吸附能绝对值越低反应能垒越低的规律。请问这种情况该如何处理，是否正常？

Co111.png (102.9 KB, 下载次数 Times of downloads: 0)

Co111周期表面

Cu-Co111.png (257.97 KB, 下载次数 Times of downloads: 0)

Cu-Co111周期表面（橙色为Cu，蓝色为Co)）

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