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[VASP] 求助:改变缩放因子对吸附计算有影响吗

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前提:计算钙钛矿氧化物对于小分子的吸附,目前的问题是,吸附H2O分子时一直无法解决优化过后表面单独氧原子断键的问题,这个问题跟老板商量过,老板认为现实是不会有这种情况的发生的,他认为这是VASP结构优化时能量趋向最低,所以不得不断开这个键,而实际上是不会有这种情况发生的,所以老板建议我试一下以下方法:
1、修改缩放因子,即POSCAR第二行的系数,做结构优化,画出类似图1的图拟合出一个最低点,目前我是利用科学网的一个方法找到一个拟合的最低点(不一定准确)正在等结果,看看是否能够做到最低的结果;https://blog.sciencenet.cn/blog-3388193-1152915.htmlVASP中E-V曲线的计算以及使用origin进行BM状态方程的拟合
2、或者我也想到第二种办法,即写一个脚本,用一天时间计算一下0.995~1.005之间的100个点,看能否找到能量最低状态。
目前的疑惑是,缩放因子的改变会对吸附的计算的表面原子键断裂会有影响吗?有什么别的办法解决问题吗?
图2为表面原子断键情况,目前只有两个位点有断裂情况,弛豫3层、2层都会有这个问题

202212031518508094..png (26.98 KB, 下载次数 Times of downloads: 7)

图1

图1

202212031520566540..png (267.41 KB, 下载次数 Times of downloads: 7)

图2

图2

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