bulk有优化bandgap，切slab后没有bandgap了

huahua0621 · 发表于 Post on 2022-6-15 11:24:36

各位老师好，VASP PBE优化BiOBr表面，1.一开始切了Bi,O,Br,2Br暴露的表面为了计算表面能，上下表面是相同的，但是除了Br和2Br暴露的表面其他总出现电子分数占据的问题，在2和0之间总是有1.7 或者0.5左右的小数，调了sigma值还有dipole都没有解决，画出来的DOS图也很奇怪，想知道怎么解决

2.准备计算表面催化反应，选择了Bi暴露的表面，切了两层，这个时候是开壳层的，画出来的dos就更奇怪了，想知道是这个表面有问题吗，应该怎么解决？

3.之前用相同的方法算过bulk还有表面单层Br和双层Br的情况，dos图也是合理的，应该不是计算方法导致的

4.还有我选择的gamma点1*1*1优化，会不会也有影响

wxl@wxl · 发表于 Post on 2024-2-26 14:45:18

请问楼主解决这个问题了吗？

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