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本帖最后由 LUJAM 于 2025-5-22 17:09 编辑
小白正在摸索学习CP2K软件,学习理论同时,也在复现一篇锂电文献:《Insights into lithium ion deposition on lithium metal surfaces》,原文使用的是VASP,按照原文的计算方法用CP2K进行复现,首先按照原文建立模型,再进行结构优化,原文是在MaterialsStudio软件中用CVFF完成的优化了结构,我是用CP2K的结构优化功能进行处理,优化的同时输出了Li-EC-1.restart文件,我使用该文件进行了后续的电荷密度差格点及曲线绘制,操作是按照使用CP2K结合Multiwfn绘制密度差图、平面平均密度差曲线和电荷位移曲线 - 思想家公社的门口:量子化学·分子模拟·二次元 (sobereva.com);可我的处理结果有些问题:锂板附近的曲线没有按照原文那样在0左右波动;在锂离子附近电荷累计,数据应该是正数,可我的输出数据却是负数;靠经He层的峰貌似也不太正确。
我目目前想求助的问题:
1.在处理电荷密度差时是否我的输入文件有误,包括建模,输入文件设置;
2.如果计算DOS可以直接使用结构优化时非OT产生的.molden文件吗;
3.这篇文献的所有计算是否适用CP2K进行复现,尤其是后面的Ionic motion from the electrolyte to the surface: slow growth approach(从电解液到表面的电子运动:缓慢生长法)。
以下是我的输入文件信息,大家能在百忙之中查看我的问题,在此不胜感激!
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