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本帖最后由 一条君 于 2025-5-29 20:48 编辑
背景是要算溶剂在表面的反应能或吸附能,感觉有必要把基底磁矩算对
文献中有一句话描述镍酸锂的(10-14)表面磁矩,如图,【LixNiO2 assumes the low-spin configuration both in the bulk and at the surface】,所以假如有36个镍(Ni3+:1个单电子),(1)请问都是低自旋构型意味着slab整体的磁矩应为36吗?
接下来就是计算遇到的问题:
a,R-3m点群,36个镍,不优化晶胞切面后,优化离子,固定4层中的下两层,得到的磁矩是21(参数是结构优化时设置自旋磁矩Li=0.6,Ni=1.4,O=0.6,偶极矫正,DFT+U,sigma=0.2,EDIFF=E-5, EDIFFG= -0.02)
b,60个镍,优化晶胞切面后,再优化离子,不保持对称性,固定4层中的下两层,其他相同条件,磁矩是9
c,36个镍,优化晶胞切面后,再优化离子,4层不固定,不保持对称性,磁矩是36(参数是结构优化时设置自旋磁矩Li=0.6,Ni=1.4,O=0.6,偶极矫正,DFT+U,sigma=0.2,EDIFF=E-5, EDIFFG= -0.01)
(2)所以请问应该怎么结构优化呢,c是正确的吗还是偶然,以后吸附也按照c的方法来吗
过程不严谨的地方有 晶胞优化和后面的结构优化,方法精度不完全一致
(前两个不一致的点是晶胞优化没有加U,EDIFFG= -0.01;晶胞磁矩是对的;第3个用的同学优化的晶胞不知道方法233)
输入输出文件见附件,
谢谢老师们@卡开发发 @让你变成回忆 @jiangning198511 @乘风万里 @北大-陶豫
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linio2表面低自旋构型.png
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