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[综合交流] 如何用MS软件做不同粗糙度的二氧化硅模型?

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楼主
如何用Materials Studio软件做不同粗糙的的二氧化硅模型,其力场是Clayff,并且还需实现其表面羟基化,使其输出的模型能够顺利在GROMACS中进行后续分子模拟?如果大家还有其他更好的方法用来做这个模型,也可以提出来。先提前感谢各位大佬!

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发表于 Post on 2026-6-16 09:02:37 | 只看该作者 Only view this author
蹲,是我没见过的需求。
是否可按照高/低晶面指数来构建尖锐/平整表面?这个算是微观上的"粗糙"吗?
看看有没有做过的大佬答疑解惑

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