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[Material Studio] 关于SiO2纳米团簇的建模调整表面羟基数量问题

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楼主
请问有没有人尝试过改变SiO2纳米团簇的表面羟基数量(或密度),有没有推荐的比较合理的调整方法。本人采用将临近的羟基进行脱水缩合的方式减小表面羟基数,形成的SiO2拓扑结构导入vmd中会出现异常的键连关系或者原子之间键缺失的情况!谁有比较合理的方法可以推荐下吗,十分感谢!

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2#
发表于 Post on yesterday 14:21 | 只看该作者 Only view this author
请问你是手动改的吗,有找到更合适的方法吗

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