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[综合交流] 关于B掺杂的Si/SiO2界面体系中含B局域结构稳定性评价问题

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本帖最后由 nusiew 于 2021-1-7 22:25 编辑

如图所示是B掺杂的Si/SiO2界面体系,整个体系是网络体结构,B从Si中向SiO2中迁移,现在主要想研究B在这个体系中各个稳定和亚稳结构的稳定性。我想要请教的问题是:对于这种网络体结构,原子之间都是通过共价键形成了一个特别大的体系,而不是单个的小分子或者团簇,B相关局域结构的稳定性该如何来计算呢?最近在学习Gaussian,但是不知道能不能从上述网络体中抽出含B的局域结构来计算?恳请大家给予建议,非常感谢!

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B掺杂的Si/SiO2界面体系

B掺杂的Si/SiO2界面体系
两个对易的厄米算子可以有共同本征函数集

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2#
发表于 Post on 2021-1-8 00:24:37 | 只看该作者 Only view this author
还是用一般的讨论方式,考察B在各个位置的自由能高低判断热力学稳定性,通过迁移势垒判断动力学稳定性。

只要你已经有了合适的初始结构,用Gaussian作为簇模型或者用ONIOM是可以算的,算的时候把边界冻住。没有初始结构的话,可以考虑用CP2K之类的程序优化一个
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 楼主 Author| 发表于 Post on 2021-1-8 14:41:06 | 只看该作者 Only view this author
非常感谢老师的指导!
两个对易的厄米算子可以有共同本征函数集

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