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[Gaussian/gview] 求助,用gaussian计算si(100)表面吸附分子的吸附能

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si(100)表面吸附有机分子的吸附能公式,通常为Eads=EAB-EA-EB ,EAB为吸附体系总能量,EA为有机分子能量,EB为si(100)表面能量。(1)我计算用的能量是优化后的单点能,是否可以?
(2)计算EB为si(100)表面能量,si周围用H饱和,见下图,那么,最上面的两个si原子因为在吸附体系中与有机分子结合,是否不应该加H饱和?如果加h了,那么si表面就比吸附体系多了2个h,能量就不对了吧?如果不加h,体系不饱和,直接用0  1  来优化吗?自旋该怎么选择?共17个si原子。
(3)所以,si(100)表面的能量该如何用gaussian来计算呢?请老师指点,谢谢。



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吸附体系

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发表于 Post on 2022-8-31 19:54:45 | 只看该作者 Only view this author
1 可以。最好簇再取大点,并且在优化时把边缘的硅原子冻结在合理位置(诸如第一性原理程序对重构后的硅表面优化出的结构的对应位置。为节约时间,最边缘的硅可以用小点的基组)

2 显然不能加氢饱和。是0 1

3 优化完了照常算单点。
北京科音自然科学研究中心http://www.keinsci.com)致力于计算化学的发展和传播,长期开办极高质量的各种计算化学类培训:初级量子化学培训班中级量子化学培训班高级量子化学培训班量子化学波函数分析与Multiwfn程序培训班分子动力学与GROMACS培训班CP2K第一性原理计算培训班,内容介绍以及往届资料购买请点击相应链接查看。这些培训是计算化学从零快速入门以及进一步全面系统性提升研究水平的高速路!培训各种常见问题见《北京科音办的培训班FAQ》
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发表于 Post on 2022-8-31 21:04:12 | 只看该作者 Only view this author
补充一句,sob老师说的不能加氢饱和,指的是不能只饱和吸附前的Si表面而不饱和吸附后的表面。但是存在一种可能是,Si上本来就是被氢完全饱和的,和有机分子之间发生的是物理吸附而非化学吸附,所以吸附后氢也没掉。如果实验上不能排除这个可能性,那么计算上也必须考虑。
实验上的Si表面极少是clean surface,经常是被氢或者羟基完全饱和的,甚至你把一块硅片抽到超高真空,上面吸附的氢或者羟基也不会轻易掉下来。一般只有用plasma打过的Si表面,或者比如说超高真空下好几百度(甚至可能上千度)退火过的Si,又或者质谱仪里观察的Si团簇,表面才有可能是干净的。很多人在实验表面不干净的情况下,计算用干净表面来算,算出来非常大的吸附能,结果实验上根本吸不上去,或者吸上去很容易掉,这是一个常见误区。
Zikuan Wang
山东大学光学高等研究中心 研究员
BDF(https://bdf-manual.readthedocs.io/zh_CN/latest/Introduction.html)、ORCA(https://orcaforum.kofo.mpg.de/index.php)开发团队成员
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发表于 Post on 2022-8-31 21:24:23 | 只看该作者 Only view this author
wzkchem5 发表于 2022-8-31 21:04
补充一句,sob老师说的不能加氢饱和,指的是不能只饱和吸附前的Si表面而不饱和吸附后的表面。但是存在一种 ...

我知道NaCl表面的水很难去掉,原来Si表面也有这个问题,看来表面反应真是头疼。
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发表于 Post on 2022-8-31 23:01:18 | 只看该作者 Only view this author
我前面说的不能饱和的意思是假定LZ就是刻意理论上研究小分子和Si表面的化学吸附作用,这里的“饱和”是对于理论计算上对边界处理层面而言的,不是考虑是否和实际状态相符。如果需要和现实中的状态相对比解释实验,需要考虑2L说的问题。
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发表于 Post on 2022-12-6 15:31:38 | 只看该作者 Only view this author
请问这个簇模型,如果Si表面不加H,计算的时候自旋多重度要怎么处理/计算呢?

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发表于 Post on 2023-11-27 22:41:43 | 只看该作者 Only view this author
请问您计算吸附能选用的什么方法基组呢?

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