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[CP2K] 单分子吸附AIMD模拟温度一直控制不住

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各位老师好

我最近在用CP2K做单分子吸附模拟

思路如下:
1. 建立4*4*3的GaN晶体,之后,进行结构优化(cell不变)
2.建立GaN单分子,之后进行结构优化
3.将优化后的GaN单分子放置在GaN上表面0.5nm的高度位置
4.利用cp2k对上述结构在700度进行AIMD模拟(+D3(BJ)的色散矫正)

AIMD只在XY方向使用周期性边界条件,Z方向添加了真空层


控温用了CSVR

但是,温度一直控制不住,所以程序可能存在硬伤,所以麻烦老师指导一下,谢谢



GaN.inp

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AIMD文件

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发表于 Post on 2024-2-2 15:30:39 | 只看该作者 Only view this author
(2) GaN 单分子?  有这种单分子?

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2024-2-2 15:36:40 | 只看该作者 Only view this author
乐平 发表于 2024-2-2 15:30
(2) GaN 单分子?  有这种单分子?

应该说是CVD过程中,形成的单体

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发表于 Post on 2024-2-3 06:12:21 | 只看该作者 Only view this author
甭用糟糕的PSOLVER ANALYTIC。用目前的Multiwfn对二维周期性体系默认用的MT,别用严重过时的Multiwfn版本
确保SCF收敛情况

在确保没以上问题后,如果温度还有所谓的控制不住,贴出来温度随时间变化的图、上传压缩后的轨迹文件

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2024-2-5 14:15:51 | 只看该作者 Only view this author
sobereva 发表于 2024-2-3 06:12
甭用糟糕的PSOLVER ANALYTIC。用目前的Multiwfn对二维周期性体系默认用的MT,别用严重过时的Multiwfn版本
...

谢谢sobereva老师,大概60fs可以控制住了,不过温度的波动比较大,正负70K,应该是粒子数比较少的原因,我现在把基板的粒子数扩大了4倍,在尝试。再次谢谢sobereva老师

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