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[综合讨论] CASTEP或者VASP计算ZnO表面吸附DNT分子(N,N-二硝基甲苯)

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最近文章修改意见中说道需要对吸附在ZnO表面上的DNT分子的吸附作用(DOS,吸附能)等进行计算,可能需要用CASTEP或者VASP进行计算模拟吸附过程,不太懂的地方有:
1、不同与CO,N2等小分子,如何将DNT放置到半导体表面上,
2、是否需要添加层结构,
3、GGA和PBE能够满足要求,
由于比较着急,对CASTEP的用法不太懂,希望大神帮帮忙,

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发表于 Post on 2016-12-2 08:22:17 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-12-1 20:54
覆盖度变了,所以吸附计算肯定也得重新做。当然,我也不能排除反应能在高覆盖度情形下进行。

我正在算,如果吸附能变化不大,有的反应能变化应该也不大。谢谢您了

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发表于 Post on 2016-12-1 20:54:23 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-12-1 17:08
老师,您好,我建立超胞计算过渡态,吸附密度会降低,是否需要对以前计算的单个CO2分子吸附进行重新计算 ...

覆盖度变了,所以吸附计算肯定也得重新做。当然,我也不能排除反应能在高覆盖度情形下进行。
日常打哑谜&&探寻更多可能。
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发表于 Post on 2016-12-1 17:08:57 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-12-1 15:45
不大,只是显示问题,可以通过平移格子的边界来解决这个问题。但是,如果吸附的分子和相邻晶格吸附的分子 ...

老师,您好,我建立超胞计算过渡态,吸附密度会降低,是否需要对以前计算的单个CO2分子吸附进行重新计算?

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发表于 Post on 2016-12-1 16:32:04 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-12-1 15:45
不大,只是显示问题,可以通过平移格子的边界来解决这个问题。但是,如果吸附的分子和相邻晶格吸附的分子 ...

谢谢您,我测了一下间距,H、O间距为2.453A,应该存在较强的H键作用,看来我计算用的表面有点小。

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发表于 Post on 2016-12-1 15:45:30 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-12-1 11:11
老师,您好,请问如果周期性体系中吸附的原子到盒子外面去了影响大吗?或者说是不是应该换个大的体系计算 ...

不大,只是显示问题,可以通过平移格子的边界来解决这个问题。但是,如果吸附的分子和相邻晶格吸附的分子距离很短,就得换更大的晶格,你可以建立超胞测量一下。
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发表于 Post on 2016-12-1 11:11:18 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-10-26 20:02
density mixing的减小不会影响结果,只是一种数值方法而已,这个与初值问题无关。真空层可以取得充分大来 ...

老师,您好,请问如果周期性体系中吸附的原子到盒子外面去了影响大吗?或者说是不是应该换个大的体系计算?

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发表于 Post on 2016-10-26 20:18:06 | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 lwj 于 2016-10-26 20:36 编辑
卡开发发 发表于 2016-10-26 20:02
density mixing的减小不会影响结果,只是一种数值方法而已,这个与初值问题无关。真空层可以取得充分大来 ...

我又试了减小density mixing的charge而不调整表面原子,结果能收敛,有一个结果还正常,但是有几个相近表面结构和bulk模型的变化不到千分之一,不知道是不是软件的问题,我本地算一下试试。

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发表于 Post on 2016-10-26 20:02:53 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-10-26 09:37
我就是听您的键density mixing的charge调小了才收敛的,也就是说初始值影响变小了,这对结果影响大吗?另 ...

density mixing的减小不会影响结果,只是一种数值方法而已,这个与初值问题无关。真空层可以取得充分大来消除吸附分子和上表面的相互作用,同时需要进行偶极矩修正。
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发表于 Post on 2016-10-26 09:37:13 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-10-25 19:50
无关,磁性结构一般可能都存在这种情况。其实不做调整原则上通过修改density mixing也能够做出来,就是要 ...

我就是听您的键density mixing的charge调小了才收敛的,也就是说初始值影响变小了,这对结果影响大吗?另外您的意思是真空层要大于20A吗?

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发表于 Post on 2016-10-25 19:50:40 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-10-25 15:13
如果结果对初始结构十分敏感,是不是参数存在问题啊?我发现优化(001)面就是受初始结构影响很大,觉得 ...

无关,磁性结构一般可能都存在这种情况。其实不做调整原则上通过修改density mixing也能够做出来,就是要反复测试charge和spin会很麻烦而已。

对于DMol3可以取足够大的真空层,计算量增加的量很少,保险起见可以空出这样的距离:吸附物的顶端到盒子顶端20A,这样就差不多了,必要的话可以更大。
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发表于 Post on 2016-10-25 15:13:27 | 只看该作者 Only view this author
卡开发发 发表于 2016-10-25 12:46
你的系统使用拟合晶体状态方程就能解决,我认为不是大问题。

调整初始结构的话不是必要在文章中交代 ...

如果结果对初始结构十分敏感,是不是参数存在问题啊?我发现优化(001)面就是受初始结构影响很大,觉得有必要再看看指导手册了,对参数再调一调,另外请问真空层厚度测试取得差值一般多大比较合适?

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发表于 Post on 2016-10-25 12:46:08 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-10-25 11:19
我的理解是直接切出来的结构恰好是Dmol3不能处理好的一个坎,只要对表面原子稍微合理的调整就可以很好的 ...
直接切出来的结构恰好是Dmol3不能处理好的一个坎

你的系统使用拟合晶体状态方程就能解决,我认为不是大问题。
但是直接手动调没有让人信服的依据

调整初始结构的话不是必要在文章中交代的,这个纯粹是技巧,就和你SCF改变初猜也不必在文章中阐明那样。因为最终还是要做结构优化,所以“原则上”初始结构不同不会影响结构优化最终的结果(之所以说原则上是因为实际上还有数值截断的问题,不同初始结构趋近因此而有些许差异,收敛精度足够高这种差异就会足够小)。
昨天castep算到一半出问题了,就直接拿更新的结构Dmol3优化

CASTEP做出来不见得和DMol3的结果相同,但具体原因我尚不清楚,也许是基函数差异,也许是赝势差异。
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发表于 Post on 2016-10-25 11:19:43 | 只看该作者 Only view this author
本帖最后由 lwj 于 2016-10-25 11:33 编辑
卡开发发 发表于 2016-10-24 22:08
不见得,赝势不同,基组也不同,会有些小差异。

我的理解是直接切出来的结构恰好是Dmol3不能处理好的一个坎,只要对表面原子稍微合理的调整就可以很好的,符合实验的收敛(表面原子向内不收敛,调了几次,幅度不一样,结果也有较大的差异),但是直接手动调没有让人信服的依据,而且不一定能很好的重复,所以通过其他能较好处理这个的模块处理一下就行了,昨天castep算到一半出问题了,就直接拿更新的结构Dmol3优化,现在已经fine精度收敛,再做一个收敛的看看重复性。最后再次感谢您,我都快放弃这个课题了,在这里卡了快1个月了,要不是您的指点,可能真跨不过这道坎。

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发表于 Post on 2016-10-24 22:08:07 | 只看该作者 Only view this author
lwj 发表于 2016-10-24 21:35
感觉Dmol3优化有问题主要是初始结构不好,用castep优化使初始结构变好,后面再用dmol3结果应该也和文献能 ...

不见得,赝势不同,基组也不同,会有些小差异。
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