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各位老师好:
我的研究对象是有机高分子材料,含CHON元素,以尼龙6(介电常数在3.5-3.7间)为例,图1是二聚体结构,左/右分别用乙酸/甲胺封端。
我想研究尼龙6在紫外照射下的分解,感兴趣的紫外波长范围为320-400nm间。
我的研究思路如下:
1. 获得分子能量最低结构:通过MS建立二聚体,采用 “将Confab或Frog2与Molclus联用对有机体系做构象搜索” 中的方法,得到298.15K下的优势构象A
2. opt+freq计算,关键词为 # opt freq M062X/6-311G* scrf=solvent=DiEthylAmine,溶剂选择DiEthylAmine(介电常数为3.5766)
3. 激发态计算,关键词为 # M062X/Def2TZVP TD(nstates=5) scrf=solvent=DiEthylAmine
疑问:
1. 通过第三步计算得出来的结果,从基态到第一激发态的激发能对应的波长大概在200多nm,不在我所感兴趣的波长范围(320-400nm)内,是否可以表明在320-400nm内,紫外光的作用不会使该分子从基态跃迁至激发态
2. 如果疑问1成立,我计算了基态分子各个键的BDE,根据计算320-400nm的光子能量足够使其中部分键解离,是否可以认为在320-400nm内,紫外光的作用是使基态分子的部分化学键直接解离
以上的思路可能不太成熟,使用的泛函和基组可能不太准确,如有任何不专业的表述和不正确的做法,还请各位老师指正,谢谢。
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