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[VASP] 求助 缺陷能级在能带间隙中的问题

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本帖最后由 xmuqyj 于 2023-12-26 19:48 编辑

我目前在做氮缺陷C3N4,用的是HSE杂化泛函做能带,能带图由vaspkit252输出。

我有两个问题,一能带图的能带间隙要忽略缺陷能级吗,我看了两篇文献,处理方法不一样;二如果能带图中导带或者价带越过了0点(费米能级),这时候能带间隙是以vaspkit为准(约为0.0几),还是直接测量禁带宽度呢?
我的能带vaspkit输出:

+-------------------------- Summary ----------------------------+
            Spin Channel:     <UP>       <DOWN>      <TOTAL>
           Band Gap (eV):    0.0364      0.0364      0.0364
  Eigenvalue of VBM (eV):   -2.3899     -2.3899     -2.3899
  Eigenvalue of CBM (eV):   -2.3535     -2.3535     -2.3535
       Fermi Energy (eV):   -2.3807     -2.3807     -2.3807
   Highest-Occupied Band:       131       131         131
  Lowest-Unoccupied Band:       131       131         131
    Location of VBM (UP):    0.2778      0.2778      0.0000
    Location of CBM (UP):    0.3333      0.3333      0.0000
    Location of VBM (DW):    0.2778      0.2778      0.0000
    Location of CBM (DW):    0.3333      0.3333      0.0000
    Location of VBM (TO):    0.2778      0.2778      0.0000
    Location of CBM (TO):    0.3333      0.3333      0.0000
** Notice: A tiny gap implies your system might be metallic. **
+---------------------------------------------------------------+

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我的能带

我的能带

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 楼主 Author| 发表于 Post on 2023-12-21 21:51:22 | 只看该作者 Only view this author
@卡开发发 请老师不吝赐教!!

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发表于 Post on 2023-12-22 02:05:15 | 只看该作者 Only view this author
xmuqyj 发表于 2023-12-21 21:51
@卡开发发 请老师不吝赐教!!

谈不上赐教,这个问题了解有限,仅讨论一下。
1、这部分内容你可以好好看一下半导体物理的书,计算程序给出来的gap一般是根据电子占据情况来的,和半导体物理上的定义不完全一样,不过对于电离能或电子亲和能的讨论应该不会有什么影响。
2、不同文献的Ef在处理的时候有可能会不太一样,有些是Ef移动到0,有些是Ev移动到0,或者算出来啥样就那么放上去的,得看看图注怎么说。最后那副图比较奇怪,gap上方的能级至少看上去是比0小的,并不太清楚作者实际怎样处理。

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发表于 Post on 2024-10-9 17:58:01 | 只看该作者 Only view this author
请问您解决了吗,我也遇到了同样的问题,没有找到您发的K@C3N4这篇文章能发我一下吗,十分感谢

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