谈谈自旋密度、自旋布居以及在Multiwfn中的绘制和计算

CHRIS_Ca

老师好，最近在做中性Pd配合物自由基的自旋密度绘制，使用PBE0-d3(bj)/def2-svp优化后，同优化泛函下使用了三个档次的基组计算单点，分别是def2-svp（所有原子）、def-tzvp（所有原子）和def2-tzvp（Pd）6-311G(d) （其他原子），得到的结果不太一致，其中后两种方法得到的结果相似，但是第一种方法自旋密度最大的位点是实际反应中与另一个自由基结合的位点。总的来讲就是第一种方法自旋密度集中在反应活性位点，后两种则是自旋密度分散在配体的pi体系中。参考您关于基组选择的文章中说“对于基于实空间函数的波函数分析，比如讨论电子密度、ELF、静电势，做AIM、RDG分析之类的，基组用6-31G*一般就足够得到定性正确的结果，用到6-311G**或def-TZVP就已经绰绰有余了。” 我认为def2-svp的结果具有合理性，但是有很担心结果是否严谨无误？所以我想问这三种基组哪种的结果更可信一些？def2-svp得到的结果合理吗？是否有方法验证结果的合理性？