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各位老师好,学生现在遇到这样的一个问题
我们课题组研究的方向是通过设计单重态离域,三重态定域的分子(S1下降,T1不变)来减小单三重态的能级差,我们在计算一个分子,并对其进行NTO分析时遇到的,我们希望该分子的三重态尽可能的集中在BDP的一部分上面。但是采用不同的计算方法(以S0,S1,T1作为最优构型)进行TD运算得到的NTO分析是有一些差异的。以S0和S1作为最优构型的S0→T1这个过程的NTO分析比较的定域,而以T1作为最优构型得到的NTO结果确实比较离域的,而且TREPR谱图也能说明T1比较离域(这个感觉也是算以T1作为最优构型计算出来的)。因此我们猜测S0→T1的这个过程是一个定域→离域的过程,或者说哪一个计算结果是比较有参考价值的(我认为S0→T1这个过程使用S0,S1作为最优构型作为输入文件比较合理,从S0到S1再ISC到T1这个过程使用T1的最优构型作为输入文件可能比较欠缺?)。
或者学生想问一下能不能有一种计算S0→T1中间的一个过渡态的计算方法,看一下这个过程是不是定域→离域的过程。学生在论坛上有看到opt=TS这样的命令计算过渡态,想请教一下这种方法。
非常感谢各位老师的指导!!!
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S0最优构型做输入文件
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S1最优构型做输入文件
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