使用sobtop产生二氧化硅的拓扑文件出现闪退

咚Tong咚咚

参照Sobtop例9的步骤，预产生CLAFF力场二氧化硅的拓扑文件，以后续在gromacs中模拟石英壁面，参照J. Phys. Chem. B 2004, 108, 1255-1266一文中给出的CLAFF力场下的二氧化硅的原子电荷、LJ参数写入到了assign_AT.dat和LJ_param.dat中。
assign_AT.dat添加如下：
$Si_claff 2.1
nbond 4
element Si
$O_claff  -1.05
nbond 2
element O
LJ_param.dat添加如下：
Si_claff   1.853       1.8405E-06;Si in claff st
O_claff   1.777       0.1554 ;O in claff ob
由于CLAFF力场中Si-O-Si 框架结构完全依靠非键相互作用来维持结构，不定义SI-O的键伸缩和角弯曲项。
在启动sobtop后依次输入了sio.pdb；1；5；但是在输入0//进入下一步后按回车sobtop就会闪退，请问各位是因为什么呢？非常感谢。

sobereva

1.8405E-06后面不能没有空格而紧跟着;，否则sobtop没法读取数据
那叫CLAYFF